液相色譜儀分析中峰形對(duì)稱性的優(yōu)劣對(duì)峰面積和分離度有很大的影響,從而影響分析結(jié)果的準(zhǔn)確性。引起峰形異常的因素很多,柱外死體積引起峰形異常有個(gè)特點(diǎn):對(duì)先出的峰影響大,對(duì)后出峰影響??;柱頭塌陷、柱頭和篩板污染會(huì)引起所 有的峰形都異常,而硅醇基次及保留只引起部分峰拖尾。相塌陷除了引起保留下降外,也會(huì)造成峰拖尾。色譜實(shí)踐中,大部分的峰形問題都 不是色譜柱的問題,儀器參數(shù)設(shè)定、色譜條件和方法正確與否對(duì)峰形有很大影響。
次及保留引起峰拖尾的機(jī)理解析:
反相色譜中,通常非及性和弱及性的化合物能獲得良好的峰形,而帶有-COOH、-NH2、-NHR、-NR2等及性基團(tuán)的化合物則比較容易產(chǎn)生拖尾,原因是硅膠表面殘留硅羥基對(duì)及性和堿性樣品分子產(chǎn)生次及保留效應(yīng)。
反相填料表面有殘余的硅羥基,具有壹定的酸性,其p Ka約為4.5~4.7。根據(jù)電離規(guī)律,流動(dòng)相的pH-p Ka>2即pH>6.7時(shí),99以上的硅羥基應(yīng)該是呈離子狀態(tài)的,即Si-O- ,而p Ka-pH>2即pH<2.5時(shí),酸性環(huán)境抑 制了硅羥基的電離,99以上的硅羥基應(yīng)該是呈分子狀態(tài)的,即Si-OH,但其及性仍然存在,即Si-Oδ-Hδ+。Si-Oδ-Hδ+和-Si-O-對(duì)于及性化合物之間的作用力則是一種及性的靜電作用力,這種作用力比范德華力要強(qiáng)得多。同時(shí),因?yàn)楣枘z表面鍵合了C18長(zhǎng)鏈,由于空間位阻作用,樣品分子中能接觸到殘余硅羥基的機(jī)會(huì)不多,只有少部分的分子才能與殘余硅羥基產(chǎn)生強(qiáng)的靜電作用而被推遲洗脫出來,產(chǎn)生后拖。拖尾嚴(yán)重的程度與樣品分子及性大小和殘余硅羥基的多少 有著直接的關(guān)系。
相同的樣品在不同品牌的柱子上產(chǎn)生拖尾的嚴(yán)重性不同,從填料合成的角度而言就是鍵合密度是否高、封尾是否徹 底,高密鍵合和徹 底的封尾能顯 著減少這種機(jī)會(huì),獲得良好的峰形。Welch公司Ulimate品牌的XB-C18、AQ-C18和Xtimate C18采取的就是高密鍵合和徹 底的雙 峰尾工藝。